PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
- 刊名
- PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
- ISSN
- 0272-4324
- EISSN
- 1572-8986
- 出版机构
- SPRINGER
- 语种
- English
- 年份
- 2026
- IF 2024
- 2.5
ACADEMIC JOURNALPLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSINGYANZHI JOURNAL DIRECTORY
大类学科
| 英文名 | 中文名 | 新锐分区 | JCR 分区 |
|---|---|---|---|
| Physics and Astronomy | 物理与天体物理 | 3 区 | Q2 |
小类学科
| 英文名 | 中文名 | 新锐分区 | JCR 分区 |
|---|---|---|---|
| ENGINEERING, CHEMICAL | 工程：化工 | 3 区 | Q2 |
| PHYSICS, APPLIED | 物理：应用 | 3 区 | Q2 |
| PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | 物理：流体与等离子体 | 3 区 | Q2 |